순천향대학교(총장 송병국)가 차세대 전자소자 제조 핵심기술을 산업체에 이전하며 연구 성과의 실용화와 상용화에 속도를 내고 있다.

순천향대학교 산학협력단은 지난 12월 1일 진공기술 전문기업 ㈜아스트로텍과 ‘In-situ 진공장비 선택성장 공정 기술’에 대한 기술이전 협약을 체결했다고 밝혔다. 이번 협약에 따라 아스트로텍은 정액 기술료 1억 원을 순천향대에 제공한다.

이전된 기술은 원자층증착(ALD, Atomic Layer Deposition) 기반으로 특정 영역에만 박막을 정밀하게 선택 성장시키는 공정 기술이다. 초미세 패터닝이 필수적인 차세대 반도체와 디스플레이 소자 제조에 핵심적으로 활용될 수 있는 기술로 평가받고 있다.

특히 다양한 기판의 표면 상태를 정교하게 제어함으로써 선택비(Selectivity)를 획기적으로 향상시킨 것이 강점이다. 기존 리소그래피 공정의 복잡성과 비용 부담을 크게 줄일 수 있어 산업 현장에서의 활용 가치가 매우 높다는 평가다.

이번 기술이전은 박환열 순천향대 디스플레이신소재공학과 교수가 개발한 특허 및 연구 성과의 사업화를 위한 것이다. 순천향대 산학협력단과 RISE 사업단은 실용화 검증(PoC)을 비롯해 호서대학교 국가기술거래플랫폼 연계 시험·인증 지원, 비즈니스 모델(BM) 설계, 상용화 로드맵 구축, 정부 지원 R&BD 기획 등을 단계적으로 지원하며 기술의 산업 적용 기반을 마련했다.

박환열 교수는 “이번 기술은 선택적 증착 기반의 초박막 성장 공정으로 전자소자 제조 전반에 폭넓게 적용될 수 있다”며 “초미세 패터닝 구현이 가능해 향후 국내 반도체 및 디스플레이 산업의 경쟁력 강화에 크게 기여할 것으로 기대한다”고 말했다.

기술을 이전받은 ㈜아스트로텍은 2022년 설립된 진공기술 전문기업으로, 초고진공 장비와 부품 개발을 바탕으로 방사광 가속기 등 국가 연구시설과 주요 산업 현장에서 기술력을 축적해 왔다. 지속적인 연구개발을 통해 글로벌 경쟁력을 갖춘 혁신기업으로 평가받고 있으며, 이번 기술이전을 계기로 차세대 전자소자 제조 공정 분야로 사업 영역을 본격 확대할 계획이다.